廣樹CVD化學(xue)氣(qi)相(xiang)沈(chen)積(ji)碳(tan)鍍膜機(ji)

廣樹CVD化學(xue)氣(qi)相(xiang)沈(chen)積(ji)碳(tan)鍍膜機(ji)特點(dian)：

采用多層(ceng)隔板設計，批(pi)量處(chu)理(li)模壓光學(xue)鏡片(pian)的碳(tan)鍍膜工(gong)藝，每(mei)爐(lu)可放(fang)數千個(ge)鏡片(pian)；

智(zhi)能化PLC程(cheng)序升溫程(cheng)序，真(zhen)空程(cheng)序，CVD進(jin)氣(qi)程(cheng)序，操(cao)作簡單方便；

優質幹式(shi)真(zhen)空泵(beng)，杜絕油液汙(wu)染(ran)，可選(xuan)擇(ze)國(guo)產幹式(shi)泵和(he)進(jin)口幹(gan)式泵(beng)；

智(zhi)能化CVD進(jin)氣(qi)控(kong)制(zhi)系(xi)統(tong)，適應於氮(dan)氣(qi)、乙(yi)炔(que)/甲(jia)烷、氬(ya)氣(qi)、空(kong)氣(qi)的通(tong)入(ru)和(he)混合(he)；

*的密封系統(tong)，泄漏(lou)率低(di)，長(chang)期使用穩定(ding)性(xing)高(gao)；

廣樹CVD化學(xue)氣(qi)相(xiang)沈(chen)積(ji)碳(tan)鍍膜機(ji)詳細(xi)資(zi)料(liao)：

主要(yao)用途

適用於模壓非球面光學(xue)玻璃(li)鏡片(pian)的碳(tan)鍍膜工(gong)藝；

適應於半導體(ti)行業晶圓表面薄膜生長(chang)；

可用於陶瓷(ci)及單晶體(ti)表面沈積(ji)碳(tan)納米(mi)管工(gong)藝；

產品技(ji)術參數

產品型(xing)號(hao)：GS-30-700廣樹      

最(zui)高(gao)溫(wen)度： 700℃；

使用氣(qi)氛： 氮(dan)氣(qi)、氬(ya)氣(qi)、空(kong)氣(qi)、二氧化碳(tan)、乙炔(que)、甲(jia)烷、合(he)氣(qi)體(ti)；

長(chang)期使用：400-700℃；

波 動(dong) 度： ±1℃；

顯(xian)示(shi)精(jing)度(du)： 0.1℃；

均 勻(yun) 度： 容積(ji)30L；

進(jin)氣(qi)流(liu)量：三路(lu)MFC質量流量計控(kong)制，壹路浮(fu)子(zi)流(liu)量計控(kong)制；

升降系(xi)統(tong)： 兩(liang)套伺(si)服(fu)升降系(xi)統(tong)平(ping)臺(tai)；

控制(zhi)系統(tong)：智(zhi)能程(cheng)序化PLC控制(zhi)系(xi)統(tong)；

真(zhen)空泵(beng)真(zhen)空度(du)： 極限(xian)真(zhen)空1Pa；

腔內(nei)真(zhen)空度(du)：≤10Pa；

降溫(wen)要(yao)求：外(wai)置(zhi)冷卻(que)風機(ji)，降(jiang)溫階段強制降溫(wen)；

整(zheng)機(ji)功率： 18KW；

電(dian) 源 ： 380V, 50Hz；

水冷裝(zhuang)置(zhi)：優質水冷機(ji),PLC聯(lian)機(ji)控(kong)制

保護(hu)裝置(zhi)： 過載(zai)、過流(liu)、過壓保護，接地(di)，熱電(dian)偶異常(chang)報警，第二回路超溫(wen)報警(jing)保護裝置(zhi)；冷卻(que)水溫(wen)保(bao)護(hu)，壓

力過載(zai)保護(hu)；

技術服務： 提供(gong)設(she)備使用過程(cheng)中的技(ji)術咨(zi)詢和(he)支(zhi)持(chi)，接到(dao)客(ke)戶(hu)故(gu)障通知(zhi)3個(ge)工(gong)作(zuo)時內立即響應(ying)。